Учени от MIT разработиха нова технология, която позволява на компонентите процесорите да променят позицията си на микроскопично ниво. Въпросният метод е много по-евтин и ефективен от Extreme Ultraviolet (EUV) литографията, която ще се използва в производството на първите 5-нанометрови процесори в индустрията. MIT предвиждат, че техният метод ще позволи да се създават много по-малки транзистори, което ще допринесе за намаляването на размера на чиповете и едновременно с това ще ги направи по-бързи.
Името на новата технология е Direct Self-Assembly (DSA) и представлява алтернатива на EUV литографията. Учените вярват, че тя ще позволи на водещите производители много по-бързо да създадат и представят първите 5-нанометрови процесори в света, предаде TomsHardware. DSA представлява съчетание от трите най-популярни метода за създаване на процесори. Първата стъпка е свързана с използването на усъвършенствана литографска технология, която с електронен лъч отпечатва повърхността на чипа.
След това към нея се добавя слой от материал известен с името Block Copolymer и е изграден от две различни полимерни съединения. В горната част се поставя защитен слой, който освен, че предпазва процесора кара Block Copolymer атомите да се подредят сами във вертикална посока, вместо традиционната хоризонтална ориентация. DSA може да направи процесорите много по-малки и е съвместима със сегашната инфраструктура, която се използва в индустрията. Първите 5-нанометрови процесори се очаква да са факт до 2020г.
Вижте как бъдещите процесори ще могат сами да откриват вируси и зловреден софтуер
Discussion about this post